一、曝光原理

基礎(chǔ)原理：在金屬基片上均勻涂抹化學(xué)感光材料，然后將需要蝕刻的圖形通過光繪或光刻的方式復(fù)制到覆蓋在基片上的感光掩膜上進(jìn)行金屬曝光。在曝光過程中，紫外光照射掩膜，光引發(fā)劑吸收光能后發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致掩膜上特定區(qū)域的化學(xué)感光材料發(fā)生聚合反應(yīng)，變得不溶于后續(xù)的顯影液。

曝光過程：曝光通常在全自動曝光機(jī)中進(jìn)行，根據(jù)燈源的制冷方法不同，曝光機(jī)可分為水冷和風(fēng)冷兩種。在紫外光的直射下，光引發(fā)劑吸收光能變?yōu)榉稚⒒?，分散基再引起不聚合單個(gè)開展聚合化學(xué)交聯(lián)反映，反映后產(chǎn)生不融解于堿性溶液的大分子式。曝光成像的質(zhì)量由燈源的選擇、曝光時(shí)間以及菲林（即膠片）的質(zhì)量共同決定。

二、曝光過程詳解

準(zhǔn)備階段：首先，將需蝕刻的圖形通過光繪或光刻的方式轉(zhuǎn)移至兩張完全一致的膠片菲林上，或通過其他方式（如機(jī)器對位）將菲林對準(zhǔn)。然后，將已涂布感光油墨或貼好感光干膜的金屬基片置于菲林中間，準(zhǔn)備曝光。

曝光操作：在曝光機(jī)中，紫外光照射菲林，對應(yīng)菲林黑色處的金屬基片未被感光，對應(yīng)菲林白色處的金屬基片感光。感光處的油墨或干膜發(fā)生聚合反應(yīng)，形成不溶于顯影液的立體形大分子結(jié)構(gòu)。

后續(xù)處理：曝光后，經(jīng)過顯影機(jī)處理，被感光的油墨或干膜不被顯影液溶化，而未感光的油墨或干膜在顯影液中被溶化去除。這樣，需蝕刻的圖形就通過曝光和顯影過程轉(zhuǎn)移到了金屬基片上。曝光環(huán)節(jié)是蝕刻加工非常重要的環(huán)節(jié)，在工藝流程中嚴(yán)格把控每一個(gè)環(huán)節(jié)，才能做出高質(zhì)量的產(chǎn)品，

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